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應(yīng)用材料硅谷EPIC中心將啟用 美光與SK海力士成創(chuàng)始伙伴共促芯片技術(shù)發(fā)展

   時間:2026-03-11 09:53 來源:天脈網(wǎng)作者:趙云飛

全球半導(dǎo)體設(shè)備巨頭應(yīng)用材料公司宣布,其位于硅谷的EPIC(設(shè)備和工藝創(chuàng)新與商業(yè)化)中心已確定美光科技與SK海力士為創(chuàng)始合作伙伴。這一消息緊隨今年2月三星電子與該公司達(dá)成類似合作之后發(fā)布,標(biāo)志著全球三大存儲芯片廠商均已加入該研發(fā)平臺。

該研發(fā)中心總投資達(dá)50億美元(約合人民幣343.83億元),創(chuàng)下美國先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)領(lǐng)域單筆投資規(guī)模紀(jì)錄。據(jù)應(yīng)用材料公司介紹,EPIC中心將于年內(nèi)正式投入運營,其核心目標(biāo)是通過產(chǎn)學(xué)研深度融合,將前沿技術(shù)從實驗室到量產(chǎn)的轉(zhuǎn)化周期縮短30%以上。

對于芯片制造企業(yè)而言,參與EPIC項目將獲得雙重優(yōu)勢:既能提前接觸應(yīng)用材料最新研發(fā)成果,加速技術(shù)迭代;又能通過聯(lián)合創(chuàng)新項目反饋實際生產(chǎn)數(shù)據(jù),幫助設(shè)備商優(yōu)化研發(fā)方向。這種雙向互動機(jī)制被業(yè)界視為應(yīng)對摩爾定律放緩的重要突破口,有望推動3納米以下制程工藝的商業(yè)化進(jìn)程。

應(yīng)用材料公司特別強(qiáng)調(diào),EPIC中心采用開放式創(chuàng)新架構(gòu),除創(chuàng)始合作伙伴外,未來還將吸納更多材料供應(yīng)商、晶圓代工廠及系統(tǒng)集成商參與。這種產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟模式被分析人士認(rèn)為將重塑全球半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)格局,特別是在EUV光刻膠、原子層沉積等關(guān)鍵技術(shù)領(lǐng)域可能催生新的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

 
 
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