在半導體設備領域，荷蘭ASML公司憑借極紫外（EUV）光刻機的絕對優勢長期占據主導地位，而日本光刻機巨頭尼康則試圖通過差異化策略打破這一格局。近期，尼康新任總裁大村康宏宣布，公司將通過價格優勢和技術兼容性切入深紫外（DUV）ArF浸沒式光刻市場，與ASML展開直接競爭。

根據公開信息，尼康計劃以低于ASML的價格銷售其ArF光刻設備，目標客戶包括多家美國及亞洲大型芯片制造商。目前，雙方已進入采購合同談判的最后階段。大村康宏指出，尼康在核心零部件自研自產方面的優勢使其具備成本競爭力，高端ArF浸沒式光刻機的定價將顯著低于ASML同類產品約8250萬美元的單臺均價。

這一戰略調整源于尼康光刻業務的嚴峻形勢。財報顯示，截至2026年3月的財年中，尼康營收同比下滑5.3%至6771.63億日元，營業利潤虧損1124.48億日元，歸母凈利潤虧損860.88億日元，創下歷史最差業績。其中，精密設備部門營收同比大跌18.9%，半導體光刻設備全年出貨量僅9臺，較上年減少1臺，且包含1臺翻新機。與此同時，ASML在全球光刻設備市場的占有率超過80%，在ArF浸沒式領域更是占據90%以上份額。

尼康的困境與其過度依賴單一客戶密切相關。傳統上，英特爾貢獻了尼康ArF設備訂單的80%，但隨著英特爾制造業務收縮和開支削減，尼康訂單量急劇下滑。大村康宏承認，公司在拓展新客戶方面進展緩慢，"尚未建立足夠的市場信任度"。

為扭轉局面，尼康宣布將于2028財年推出新一代ArF浸沒式光刻平臺。該設備不僅搭載全新鏡頭和晶圓載臺，更關鍵的是實現了與ASML現有設備的兼容，大幅降低客戶遷移成本。尼康計劃在2026財年內交付首臺新一代干式ArF光刻機"NSR-S333F"，進一步豐富產品線。

市場分析認為，尼康選擇DUV領域作為突破口具有現實考量。重返EUV市場需要巨額研發投入且面臨至少10年的技術差距，而ArF浸沒式設備雖技術成熟，但受益于AI芯片需求增長，市場規模持續擴大。2025年，ASML共出貨131臺浸沒式DUV光刻機，年末積壓訂單達388億歐元，顯示供不應求態勢。尼康此時以價格優勢切入，有望吸引尋求多元化供應商的芯片制造商。

大村康宏透露，公司正在實施戰略收縮，聚焦相機和半導體光刻兩大核心業務。他預計，隨著AI驅動的半導體需求激增，芯片廠商為控制供應鏈風險，將更傾向于培養第二供應商而非依賴單一企業。目前，全球僅有尼康和ASML具備ArF光刻設備量產能力，這為尼康提供了難得的市場窗口。

然而，尼康的復興之路仍充滿挑戰。ASML通過長期研發合作和獨家供應尖端設備，已建立難以撼動的技術壁壘。尼康不僅需要證明其產品具備可靠性能，還需構建完善的技術支持體系。其2028年新平臺的量產時間表意味著，在接下來兩年中，ASML仍有充分時間鞏固市場優勢。對于深陷財務困境的尼康而言，這場價格與技術雙重博弈既是突破機遇，也是高風險賭局。