蘇大維格（300331）近日發布的2025年年度報告顯示，公司在微納制造領域持續加大技術投入，全年研發投入達1.87億元，較上年增長28.97%，占營業收入比重提升至9.17%。過去五年間，公司研發投入復合增長率保持在7.67%的水平，為技術創新提供了堅實支撐。

盡管研發投入顯著增加，但研發團隊規模略有收縮。報告期內公司研發人員數量為401人，較上年的408人減少1.72%，占總員工比例從20.26%降至17.67%。這一調整或與公司優化研發資源配置、聚焦核心領域有關。

作為國內微納結構產品制造和技術服務的領軍企業，蘇大維格已構建起覆蓋納米級和微米級的光刻設備體系。公司自主研發的激光直寫光刻機和納米壓印光刻機形成技術平臺，支撐了公共安全防偽、消費電子新材料、高端智能裝備、反光材料四大事業群的發展。其產品廣泛應用于半導體、光伏、新型顯示、汽車等多個領域，形成多元化業務布局。

報告期內，公司重點推進激光直寫光刻機在高端掩模制造、先進封裝領域的應用，同時探索投影掃描光刻設備在光伏銅電鍍圖形化場景的技術落地。在超精密微納光學器件方面，虛實融合透明顯示、光柵及光柵尺、VR/AR、AR-HUD、光場屏等產品的研發驗證與商業化進程取得進展，光子芯片、光通信器件等前沿領域的技術儲備持續加強。

財務數據顯示，2025年公司實現營業收入20.40億元，同比增長10.82%；歸母凈利潤虧損1900萬元，較上年收窄68.09%；扣非凈利潤虧損7375.23萬元，同比改善21.89%。經營活動產生的現金流量凈額為2.14億元，同比增長4.78%，顯示公司經營質量有所提升。